三氧化钨陶瓷靶材

三氧化钨(WO3,tungsten trioxide)薄膜是一种重要的功能材料,因其具有优良的电致变色性能而被用于系统中。电子束蒸镀法制备致变色用WO3薄膜常用的蒸镀物质有WO3粉末和WO3靶材两种。目前研究较多的是采用WO3粉末作为蒸镀物质,但是采用粉末的形式通常不合适因此选蒸镀物质,但是采用粉末的形式通常不合适因此选蒸镀物质,但是采用粉末的形式通常是不合适的。因此选WO3靶材作为蒸镀物质是一种优化方案。但是当前国内外却鲜有对WO3靶材制备的报道。国内实验室制备的WO3靶材,存在密度低或纯的缺点,因此制备高纯度密度WO3靶材具有重要的意义。

为了制备高纯度超致密WO3靶材,可拟从粉体、成形和烧结三个方面进行研究,而这三的优化组合是达成上述目标的必要条件。具体研究内容包括:

(1)高纯度、烧结活性且压制能优良的WO3粉末的制备;

采用国产的高纯氧化钨(度大于99.99%)为原料,采用低能滚动球磨工艺制备实验粉末,探讨球磨破碎机理以及工艺、介质等对粒度结构和纯度等的影响。

(2)WO3陶瓷的压制工艺优化;

将WO3造粒粉在不同压力下模(为避免夹杂,采用高硬度、耐磨性且主要化学成分为钨的硬质合金镶嵌模具),析压强与坯密度关系以及离散性,探讨最优的压制工艺。

(3)WO3陶瓷的烧结工艺优化。

为了抑制WO3烧结过程中的升华,实验烧结过程中全程通氧。探讨温度、和压坯密度对烧结致的影响,找出最佳工艺。

三氧化钨陶瓷

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